研究開発
長年蓄積されたスケールアップ・実機導入を目的としたプロセス開発技術を有しています。
製法トレース実験から開始し、実機生産を想定したプロセス検討、コストシミュレーション等を経て、
貴社のご要望に沿った改良検討項目並びに検討スケジュールをご提案します。
同じ技術者がラボから試作、製造まで一貫して担当することを特徴としております。
主要分析機器（合成技術研究部）
| 機器 | 仕様 |
| HPLC |
低圧グラジエント、検出器：UV、UV-VIS、RI、PDA、分取HPLC |
| GPC |
低圧グラジエント、検出器：RI、PDA |
| GC |
検出器：FID、ヘッドスペース試料導入装置付き |
| NMR |
400MHz、多核測定対応(1H、13C、15N、17O、19F、29Si、31P等) |
| LC/MS |
シングル四重極型、DUISインタフェース |
| FT-IR |
7800～350cm-1 |
| 紫外可視分光光度計 |
190～900nm |
| 示差熱・熱重量測定装置(TG-DTA) |
室温～1100℃ |
| 示差走査熱量測定装置(DSC) |
室温～750℃ |
| カールフィッシャー水分計 |
容量滴定法、電量滴定法 |
| 電位差滴定装置 |
pH 0.00～14.00 |
| 粉末X線回折装置 |
X線源：Cu、600W |
| 原子吸光装置 |
ファーネス法（185～900nm） |
| 融点測定器 |
室温～350℃ |
| 電子水分計 |
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