事業案内Services

受託製造

長年蓄積した合成技術により、プロセス開発からGMP生産まであらゆる受託に円滑に対応いたします。
GMP少量生産のプラント設備により、既存のGMP対応大型設備や高性能マルチパーパス設備と合わせ、
少量数百gから大型ロット生産まで、さまざまなニーズに柔軟に対応できる生産能力を備えております。
また、2023年5月に新たに高薬理活性原薬製造設備が稼働致しました。
ICH-GMPに準拠し、DNFおよびCEP登録、FDA査察経験に裏打ちされた徹底した品質管理体制のもとに、
お客様にご満足いただける受託サービスをご提供いたします。
またEHS(Environment、Health、Safety )投資に積極的に取り組んでおります。

受託製造の流れ
受託製造の流れ
主要設備
パイロットプラント設備
設備仕様容量
反応装置
常圧、-5~140℃(200℃)
ガラス 10L 5基
グラスライニング 300L 5基
1,000L 1基
ステンレス 300L 3基
500L 1基
加圧反応装置
~10kg/cm2、-5~140℃
ステンレス 200L 1基
真空蒸留装置
3mmHg、~200℃
ステンレス 200L 1基
遠心分離機 上排型ステンレス φ12インチ 1基
φ20インチ 2基
φ30インチ 1基
濾過分離機 加圧ステンレス 2基
減圧ステンレス 2基
乾燥機 棚段送風式ステンレス 1基
棚段真空式ステンレス 1基
コニカル真空式ステンレス 30L 1基
クリーンルーム 清浄度10万/ft3
換気20回/hr以上
1室
冷凍機
媒体-20℃
3600kcal/hr 1基
実機設備
設備仕様容量
反応装置
常圧~100mmHg、-5~140℃(200℃)
グラスライニング 2m3~10m3 41基
ステンレス 1m3~10m3 67基
チタンクラッド 2.5m3 2基
加圧反応装置
~10kg/cm2、-5~140℃
ステンレス 2m3~4m3 5基
グラスライニング 4m3 1基
光反応装置
600〜700nm
ステンレス
Naランプ
1基
真空蒸留装置
3mmHg、~180℃、N=12
ステンレス 1m3~7m3 3基
遠心分離機 底排型 ステンレス φ24~55インチ 5基
上排型 ステンレス φ24~55インチ 21基
濾過分離機 加圧 ステンレス 18基
減圧 ステンレス 29基
減圧 FRP 1基
乾燥機 棚段送風式 ステンレス 22基
コニカル真空式 ステンレス 2~2.5m3 6基
コニカル真空式 グラスライニング 2m3 2基
ナウター型真空式 ステンレス 1m3 3基
2m3 5基
粉砕機 ピンミル ステンレス 9基
ハンマーミル ステンレス 3基
パワーミル ステンレス 1基
フェザーミル ステンレス 1基
ジェットミル ステンレス 1基
クリーンルーム 清浄度10万/ft3
換気20回/hr
遠分室 10室
乾燥室 11室
粉砕室 12室
製氷機 ステンレス 2.4t/日 1基
廃水処理 活性汚泥
冷凍機 媒体 -20℃
缶内 -10~-5℃
46kW 16基
実機設備(高薬理活性原薬製造棟)
設備仕様容量
反応設備 グラスライン 500L 2基
濃縮器 ハステロイ C-22 1基
ろ過乾燥機 UNS N06022 270L 1基
アイソレーター シングルユース 1基
クリーンルーム Class 100,0000 1室
主要分析機器(静岡工場)
製品の品質管理に必要な分析機器を取り揃えております。
データインテグリティーに対応した運用を行っております。
お客様のニーズに応じて、東京にある合成技術研究部の分析機器を使用した測定も可能です。
機器仕様
HPLC 低圧グラジエント、検出器:UV、RI
GC 検出器:FID、ヘッドスペース試料導入装置付き
ICP-MS ICH-Q3D対象元素対応、有機化合物対応
FT-IR 7800~350cm-1
紫外可視分光光度計 190~900nm
カールフィッシャー水分計 容量滴定法、電量滴定法
電位差滴定装置 pH 0.00~14.00
旋光計 589nm (Na)
粒度分布測定装置 レーザー回折式(湿式・乾式)、顕微鏡式、空気透過法
主要反応
橙字は当社得意技術
アシル化酸クロライド、酸無水物などによる
アミド化アンモニア、各種アミンなどによる
アミノ化ニトロ、ニトロソの還元及び各種アミンによる
アルキル化ジアルキル硫酸、アルキルハライドによる
エステル化各種有機酸及び無機酸とアルコール類による
還元接触水添、酸性接触還元、NaBH4、亜硫酸、アルミニウムアルコキシド
グリニャール反応
クロル化NaOCl、SOCl2、PCl3、POCl3などによる
光学活性体合成不斉還元、光学分割
酵素反応不斉加水分解、加水分解
コルベ・シュミット反応炭酸ガスによる
酸化H2O2、NaOClなどによる
ジアゾ化NaNO2による
シアノ化-CONH2 → -CN
鈴木-宮浦カップリング反応R-B(OH)2、Pd触媒による
スルホン化硫酸、発煙硫酸、三酸化硫黄ピリジン錯体による
ニトロ化硝酸、混酸などによる
ニトロソ化NaNO2による
配糖化BF3、メタンスルホン酸による
光反応ナトリウムランプによる
フリーデル・クラフツ反応アシル化、アルキル化
ブロム化Br2による
ホルミル化HCHO、Vilsmeyer反応などによる
光延反応
リン酸エステル化POCl3、PCl3などによる
その他有機合成反応
得意技術
接触還元
当社は接触還元に関する実生産レベルの豊富な知識と長年の経験があります。
お客様の反応に最適な還元条件を選定、ご提供します。
また、触媒の仕込から回収まで、安全、安心な取扱い操作を確立しており、触媒メーカーと連携したリサイクルによるコスト削減も実現しています。
接触還元
接触還元反応例
接触還元反応例
光酸化ブロモ化
光酸化 臭素タンクシステムを保有しており、臭素そのものを使用 ブロモ化
フリーデル・クラフツ反応コルベ・シュミット反応
塩化アルミニウムを使用
副生する水酸化アルミニウムの除去に関するノウハウもあり フリーデル・クラフツ反応
温和な条件での反応が可能 コルベ・シュミット反応
鈴木-宮浦クロスカップリング
Pd触媒使用に関するノウハウに基づいた、実機設備での生産 鈴木-宮浦クロスカップリング
高薬理活性原薬
高薬理活性原薬製造設備
2023年初夏に高薬理活性原薬製造設備が稼働します。一般原薬に加え高薬理活性原薬の受託製造も可能になります。
設備は、バイオハザードレベル4(OEL1~10µg/m3)までの高薬理活性原薬の製造が可能です。
グループ会社のスペラファーマ(株)と共同でプロセス開発を行い、商用生産を見据えた合成ルートの検討を行います。
高薬理活性原薬製造設備2


製造設備

反応・晶出機  : 500L GL 2基
ろ過乾燥機   : 270L 1基
アイソレーター : シングルユース方式
封じ込め設備  : バイオハザードレベル4
          (OEL1~10μg/m3)

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