研究開発
長年蓄積されたスケールアップ・実機導入を目的としたプロセス開発技術を有しています。
製法トレース実験から開始し、実機生産を想定したプロセス検討、コストシミュレーション等を経て、
貴社のご要望に沿った改良検討項目並びに検討スケジュールをご提案します。
同じ技術者がラボから試作、製造まで一貫して担当することを特徴としております。
主要分析機器(合成技術研究部)
機器 | 仕様 |
HPLC |
低圧グラジエント、検出器:UV、UV-VIS、RI、PDA、分取HPLC |
GPC |
低圧グラジエント、検出器:RI、PDA |
GC |
検出器:FID、ヘッドスペース試料導入装置付き |
NMR |
400MHz、多核測定対応(1H、13C、15N、17O、19F、29Si、31P等) |
LC/MS |
シングル四重極型、DUISインタフェース |
FT-IR |
7800~350cm-1 |
紫外可視分光光度計 |
190~900nm |
示差熱・熱重量測定装置(TG-DTA) |
室温~1100℃ |
示差走査熱量測定装置(DSC) |
室温~750℃ |
カールフィッシャー水分計 |
容量滴定法、電量滴定法 |
電位差滴定装置 |
pH 0.00~14.00 |
粉末X線回折装置 |
X線源:Cu、600W |
原子吸光装置 |
ファーネス法(185~900nm) |
融点測定器 |
室温~350℃ |
電子水分計 |
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